臺式掃描電鏡（SEM）具有多種成像模式，以下是其中常見的幾種：

二次電子成像（SEI）：二次電子成像是常用的臺式掃描電鏡成像模式。它利用從樣品表面發射的二次電子來形成圖像。二次電子對樣品表面的拓撲和組成非常敏感，能夠提供樣品的表面形貌和細節信息。

反射電子成像（BEI）：反射電子成像使用從樣品表面反射的電子來形成圖像。與二次電子不同，反射電子可以提供更深入的樣品信息，如晶體結構、材料成分和表面反射率。

透射電子成像（TEI）：透射電子成像模式允許電子束穿透樣品，形成透射電子圖像。透射電子成像常用于研究材料內部的結構和組織，尤其在材料科學和生物學領域中應用廣泛。

背散射電子成像（BSEI）：背散射電子成像利用從樣品背面散射回來的電子來形成圖像。背散射電子對樣品的原子序數和密度非常敏感，因此可以提供有關樣品組分和晶體結構的信息。

偏置電子成像（SEI+BSEI）：偏置電子成像模式結合了二次電子和背散射電子成像。通過同時獲取二次電子和背散射電子信號，可以提供更豐富的樣品信息，包括表面形貌和組成。

這些成像模式在臺式掃描電鏡中可以根據需要進行選擇和調整。每種模式都有其獨特的應用和優勢，可以用于不同類型的樣品研究和分析。根據研究目的，選擇合適的成像模式可以獲得更詳細的樣品信息。

ZEM15臺式掃描電子顯微鏡

以上就是澤攸科技小編分享的臺式掃描電鏡的成像模式。更多掃描電鏡產品及價格請咨詢